Laserji s tanko plastjo z odlično kakovostjo žarka in visoko učinkovitostjo pretvorbe optika v optiko se vedno pogosteje uporabljajo na področjih, kot sta industrijska proizvodnja in temeljne znanstvene raziskave. Zlasti ultrahitra laserska tehnologija tankega odseka se je izkazala za najboljšo rešitev za realizacijo velike impulzne energije, ultra kratke impulzne širine in visoke povprečne moči, ki je znana tudi kot "kronski dragulj" laserske industrije in je velika pomen za vrhunsko proizvodnjo, ustvarjanje ekstremne ultravijolične svetlobe in atosekundno znanost.
Nemški Trafotek že dolgo časa izključno vodi raziskave in proizvodnjo tankoplastnih laserjev in je dosegel velik komercialni uspeh. V zadnjih 4 letih je projektna skupina ob podpori nacionalnega ključnega programa raziskav in razvoja "Novi zasloni in strateški elektronski materiali", ki ga vodi prof. Ruan Shuangchen s tehnološke univerze v Shenzhenu, sodelovala s Šanghajskim inštitutom za raziskovanje laserske plazme Kitajska akademija inženirske fizike, Jiangsu Normal University, Daqi Laser, Inštitut za raziskave polprevodnikov Kitajske akademije znanosti, Jiangsu Third Generation Semiconductor Research Institute in druge enote za izvajanje tehničnih raziskav in proizvodnjo tankoplastnih laserjev. Raziskovalni inštitut za polprevodnike tretje generacije in druge enote za izvajanje tehničnih raziskav, premagovanje natančne obdelave tankoplastnih kristalov, oblikovanje in pakiranje sistema kristalnega hladilnega telesa, 48-črpalni sistem za udarce, visoko stabilno regenerativno ojačevalno resonančno votlino in več -kanalno ojačanje in druge ključne ključne tehnologije, prvi na Kitajskem, ki je dosegel premer > 20 mm Yb: YAG tankoplastna kristalna embalaža, razvoj 48-taktnega črpalnega sistema kilovatnega razreda.
Februarja 2024 je skupina na Kitajskem dosegla velik preboj ultrahitrih laserjev s tankimi lističi kilovatnega razreda: največja povprečna moč impulza 1,075 kW, širina impulza 7 ps, nastavljiva frekvenca ponavljanja 500-800kHz, največja energija impulza 2,1 mJ, kakovost žarka M2<1.5, spot ellipticity of 0.96, for the China's attosecond light source, extreme UV lithography, new energy vehicles, 3C electronics and chip processing, aerospace and other high-end manufacturing industries, to provide advanced laser light source.
